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第589章 摩尔定律和半导体工艺制程（第5页）

但是这个不标准的定律当然是有用的，而且用处非常的大。

摩尔的“单位面积的晶体管每两年翻一倍”的结论，随着intel的巨大影响力慢慢成了行业标准。

那这个产业内部也很可能会实际上存在类似的“行业定律”。

实际上，历史上早期的光刻机技术验证，也曾经用过同步辐射光源去做研究和验证。

肯定是留有余量的。

包括最为接近X光的“极紫外光”。

最早的光刻机光源是可见的蓝光，波长是450纳米，实现了微米级的工艺。

同时它也可以继续作为科研设备持续运转。

大明现在的情况与另一个世界截然不同。

最起码，在持续四十年的时间内，intel自己显然是留有余量的。

首先intel自己以两年为单位，制定后续的生产和升级计划。

等到官方厂商想要向民间推广的时候，也需要时间和成本让民间厂商和用户接受。

那这个速度就不是半导体产业升级速度的极限。

还有新产业集团统一协调研发和生产节奏，不需要在多方厂商关系协调上浪费时间。

同时要求，它必须是六十四位微处理器，开发代号也因此直接确定为六十四。

不然intel也不会有牙膏厂的绰号。

最后，摩尔既然是供应链周期和行业口号，并且在数十年内都基本保持住了。

也不需要专门喊口号让大家保持同步。

这又反过来让摩尔定律持续不断地延续下去。

同时，对于所有的普通工作者而言，也要另外给更加实在的奖励。

比如说“同步辐射光源”设施，本身作为一个其他方面的科研设施，其原理使得其能放出各种波长的光。

当民间厂商参与这个产业的时候，整个行业相关的标准和规范都已经确定下来了。

大明的半导体产业构建方式，与历史上的美利坚完全不同。

目前完全没有任何民间厂商直接参与。

但是又不能无限短，最短的X射线会直接穿过物体，导致无法通过透镜和反射来缩放图纸。

这种模式的缺点当然很明显。

以现在大明的资源，对于后世出现过其他方案，也可以让工部有选择尝试。

直到深入5纳米制程范围的时候，193纳米的深紫外光源才彻底走到了尽头。

朱靖垣理所当然的计划，就是把产业的主流产品和行业标准，都培育和规划到相对成熟的状态。

在这样的基础上，朱靖垣对工部、半导体司、工匠们提出了更加具体的研发目标。

在朱靖垣的记忆之中，类似的事情已经重演过很多次了。

但是可以通过曲面透镜投影缩放的方式，照着大模板来生产更小的芯片。

新处理的性能目标是每秒计算次数不低于一千万次。

按照光刻机的逻辑，光源的波长越短，就能够生产出制程越小的芯片。

其次是要在两年内，开发出第一代专用的图像、音频、网络处理芯片，也就是显卡、声卡、网卡。

然后是容量更大，存储密度更到的硬盘，争取将容量提升到十亿字（1G）。

最后是另外成立几个新团队，完成光盘、闪存、数码相机、液晶显示屏相关的技术验证，拿出基本的产品来。